语言选择: 中文版 ∷  英文版

MDA-20SA光刻机

  • MDA-20SA光刻机
MDA-20SA光刻机

MDA-20SA光刻机

MDA-20SA光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-20SA
厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-20SA

操作简单,可编程控制器(PLC)操作,PC控制,图像采集和数据记录,100多个程序配方,电动操纵杆控制,电动变焦显微镜和工作台,显微镜位置控制系统


操纵杆控制,半自动

掩模版尺寸规格,用户订制

基板尺寸规格(大面积),用户订制

均匀光束规格,用户订制

紫外线光源:紫外线灯,5 kW

光束波长350~450 nm

光束均匀度<±7%

365 nm强度5 kW: ~45 mW/㎠

对准方法:操纵手柄控制半自动

对准精度1 um

工艺模式:软、硬、真空接触和接近

分辨率:透镜 >3 um,反射镜:>9 um


上一个:PL SERIES纳米压 下一个:没有了!